國產光刻機能實現多少nm工藝制程？

據專家介紹，國內光刻機90nm工藝技術與荷蘭ASML光刻機7nm工藝技術至少有15年的差距。制造工藝上的差距主要反映了與西方發達國家在精密制造領域的差距。

光刻機的格局目前，光刻機市場幾乎被荷蘭ASML、日本尼康、佳能、上海微電子所壟斷。它分為三個梯隊。荷蘭ASML壟斷高端光刻機市場份額，日本尼康、佳能處于中端市場，同時爭奪低端市場，上海微電子只有低端市場。

上海微電子成立于2002年。在成立之初，它訪問了荷蘭的ASML，并被嘲笑說"即使所有的圖紙和零件都給了你，你也不能把它們組裝起來。自力更生之后，上海微電子只是打了外企的臉。2007年，90納米制程工藝的光刻機研制成功。

世界與。;美國最先進的光刻機制造商是荷蘭的ASML，只有荷蘭的ASML能生產7納米EUV光刻機。mainlandChina的晶圓代工廠SMIC，大多使用ASML的高端光刻機，已經量產14nm工藝芯片，突破了N1和N2工藝，但后續的先進工藝技術仍然需要EUV光刻機。SMIC早在2018年就成功預訂了《瓦森納協定》，這些頂級部件是對禁運的。

上海微電子是一個系統集成商，它不t自己生產關鍵部件，所以它制造22納米以下的高端光刻機不是它的責任。消息稱，上海微電子已突破28nm制程工藝關鍵技術。但由于供應鏈的影響，量產時間尚未確定。

就目前情況來看，只能做好低端領域，慢慢培育國內供應鏈，逐步向高端光刻機領域發展。

如果你認為它對你有幫助的，可以多表揚，也可以隨意關注。謝謝你。

【quartus】原理圖輸入設計詳解攻略？

在這里，默認情況下，您已經構建了一個新項目。點擊[File]菜單下的[New],打開用戶設計和建立向導，在[New]中選擇[Designfiles]-[Blockdiagram/原理圖文件]進行原理圖文件輸入。

建立原理圖設計文件

呼叫參數數字化元件，在繪圖區域雙擊鼠標左鍵打開添加符號元件的窗口。

調用輸入端口"輸入和輸出和邏輯器件"74138和分別是。

繪圖控制操作，使用縮放工具按鈕后，請切換回按鈕(選擇和畫線工具)來編輯繪圖。

從符號庫中調出需要的輸入輸出端口，整齊排列。

完成畫線連接操作(鼠標放在端點時，會自動捕捉，按下左鍵拖動到目標，松開后完成一次畫線操作)。

鼠標左鍵雙擊端口名稱，如電路74138的Y7N端子所示，直接輸入自定義名稱。74138邏輯測試電路原理圖設計！

在下拉菜單[處理]中選擇[開始編譯],開始整個編譯。

編寫全過程分析報告；

選擇處理/開始編譯，自動完成分析、調試、綜合、改編、匯編、時序分析的全過程。

在編譯期間，錯誤消息由下面的信息欄(紅色字體)指示。雙擊此信息以定位錯誤，糾正錯誤并在此編譯，直到所有錯誤都被消除。

編譯成功后，會彈出編譯報告，顯示相關編譯信息。

QuartusII的編譯器由一系列處理模塊組成；這些模塊負責錯誤檢測、邏輯綜合、結構綜合、輸出結果的編輯和配置以及設計項目的時序分析；

在此過程中，設計項目適應FPGA/CPLD目標器件，同時生成多用途輸出文件，如功能和時序信息文件、器件編程目標文件等。

編譯器首先檢查出工程設計文件中可能存在的錯誤信息，供設計者排除，然后生成用結構化網表文件表示的電路原理圖文件；

工程編制完成后，可以通過時序仿真分析設計結果是否滿足設計要求；創建波形向量文件

添加一個固定節點，然后選擇菜單視圖-實用程序窗口-節點查找器。

選擇"引腳:未分配"在“過濾器”下，然后單擊"列表和列出引腳端口。

在找到的節點下的列表中選擇列出的端口，并將其拖放到波形文件的引腳編輯區域。

設置模擬時間長度，并選擇菜單[編輯]-[結束時間]命令。默認值為1us，這里設置為100us。

設置模擬時間段，并選擇菜單[Edit]-[Gridsize…]命令。默認值為10ns。由于競爭冒險的存在，仿真時信號波形和大量毛刺混在一起，影響了仿真結果。因此，這里設置為500ns。

編輯輸入端口信號，并使用窗口縮放(左鍵縮放，右鍵縮放)將波形縮放到適當的程度。

開始時序模擬，在在【處理】下拉菜單中選擇【開始仿真】，分析波形可見，與74LS138功能真值表一致，結果正確。